Sviluppo e applicazione dell'ellissometria spettroscopica per la caratterizzazione ottica di materiali avanzati

L'ellissometria spettroscopica è basata sulla variazione di polarizzazione indotta in un fascio luminoso a causa della riflessione sul materiale da analizzare. Essa è in grado di ottenere in particolare misure dell'indice di rifrazione complesso e della funzione dielettrica del materiale, di fornire informazioni sullo spessore di film sottili, sulle loro cristallinità e qualità ottica, sulle caratteristiche superficiali, sulla composizione chimica e sull'anisotropia ottica. Dopo aver testato e calibrato lo strumento, nel lavoro svolto si sono analizzati materiali tipicamente utilizzati in celle solari a film sottili e campioni per il progetto NABLA. Vi è inoltre uno studio sistematico sulla variazione dell'indice di rifrazione di un diamante monocristallino in seguito a impiantazione ionica. Le misure ellissometriche sono interpretate con un modello incentrato su uno specifico profilo di danneggiamento. L'impiantazione ionica permette la diretta fabbricazione di strutture ottiche in diamanti monocristallini basata sulla variazione locale dell'indice di rifrazione, che sarà indagata ulteriormente in lavori futuri.